半導體行業廢氣治理方案

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半(bàn)導體行業廢氣治理方案方案(àn)概述

半導體行業廢氣處理,按照其廢氣處理工藝分為:酸性廢氣處理(SEX)、堿性廢氣處理(lǐ)(AEX)、有機廢氣處理(VEX)和一般排氣(GEX)等;其廢氣(qì)處理(lǐ)係統包括:酸性廢氣處理設備、堿性廢(fèi)氣處理設備、有機廢氣處理設備等;酸、堿(jiǎn)廢氣處理設備(bèi)有:洗滌塔(tǎ),又名噴淋塔、吸收塔;有機廢氣處理設備有:活(huó)性炭吸(xī)附裝置、直燃式熱(rè)氧化廢(fèi)氣焚(fén)燒爐(TO)等。


方案特點

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技術路線(xiàn)

1 活性炭(tàn) / 沸石+催化燃燒

淨化原理: 有機廢氣通過活性炭/沸石吸附飽和後,采用(yòng)熱空氣進行脫附再生,脫附後的高濃(nóng)度廢氣經催化燃燒排(pái)空。催化燃燒利用熱空氣或熱氮氣來脫附產生的高濃度廢氣,有機廢氣在貴金屬催化劑的作用下於250~400℃之間催化氧化為(wéi)CO2和H2O,並釋放大量(liàng)的熱量,通過熱交(jiāo)換器對熱量進行再利用。

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2 沸石轉筒+三塔式RTO

本技術是沸石轉輪吸附同蓄熱式焚燒技術的組合(hé)工藝,淨化係統主要由三級幹式過(guò)濾裝置、沸石轉輪濃縮吸附裝置、RTO、風機、換熱(rè)器、PLC自動化(huà)控製係統組(zǔ)成。該組合技術通過沸(fèi)石轉輪的吸附濃縮(suō)使大風量、低濃度有機廢氣濃縮為小風量、高濃度濃縮氣體,高濃度濃縮氣再經RTO高溫燃燒分解為(CO2和H2O等無機成分。


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