半(bàn)導體新材(cái)料製造產生的廢氣怎(zěn)麽處理好呢?

半導體新材料製造產生的廢氣怎麽處理好呢?摘要

隨著科技的發展,目前市場上(shàng)新材料(liào)行業與傳統材料相比,其應用範圍更廣了,新材料產(chǎn)業的研究與開發投入高,產品(pǐn)的附加值高在生產與市場的國際(jì)性強,而且新材料半導(dǎo)體(tǐ)行業的發展前景好。而新材料半導體行業在加工的過(guò)程中采用清洗劑(jì)、顯影劑、光(guāng)刻(kè)膠、蝕刻液等(děng)溶劑,這些溶劑中含有大量的(de)有機物成分,在整(zhěng)個工藝加工的(de)過程中將會有部分的有機溶劑大部分通過揮發成為廢氣排放,這部分揮發的廢氣主要成分為具有(yǒu)揮發性的VOCs,

  隨著科(kē)技的發展(zhǎn),目前市場上新材料行業與傳統材料相比,其應(yīng)用(yòng)範圍更廣了,新材料(liào)產業的(de)研究與開發投入高,產(chǎn)品的附加(jiā)值高(gāo)在生(shēng)產與(yǔ)市場的國際性強,而(ér)且新材(cái)料半導體行業的(de)發展前景好。而(ér)新(xīn)材料半導體行(háng)業在加工的過程中采用清洗劑、顯(xiǎn)影劑、光刻膠、蝕刻液(yè)等溶劑,這些(xiē)溶劑中含(hán)有大量的有機物成分,在整個工藝(yì)加工的過(guò)程中將會有部分的(de)有機溶劑大(dà)部分通過揮(huī)發成為廢氣排放,這部分揮發的廢氣主要成分為具有揮發性的VOCs,下麵講解一下關於:新材料半導體行業的廢氣應該怎麽(me)處理。#催化(huà)燃燒廢氣處理設備(bèi)#

  新材料半導體行(háng)業的(de)廢氣除了含有VOCs以外,還混有HCl、氨、HF等危險(xiǎn)汙染物,91成人采用的是RTO蓄熱式焚燒爐來處理半導體行(háng)業(yè)的廢氣:工業廢氣中主要含有酸性氣體、堿性氣體、有機廢氣和有毒氣體四種,自(zì)身具有的(de)溶解特性,半導體工業(yè)的氣體雖然排放量大,但是氣體的濃度低。

  RTO設備(bèi)采(cǎi)用的是高溫破壞焚燒的廢氣治理技術,升溫能源一般是電和天然氣(qì),其高溫需高達700度或者以上,雖然溫度需高達700度左右,但是(shì)其實消耗的能源並不(bú)多,設備運行期間(jiān)部分的熱能(néng)是能夠回收重新利用的,降低能量消耗的同時提高了廢氣分子(zǐ)的燃燒反應速率(lǜ)。

  天(tiān)清佳遠環境半(bàn)導體材(cái)料廢氣處理設備(bèi)的淨化效率可維持穩定在99%以上。


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